高(gao)純鎢(wu)濺(jian)射(she)靶(ba)材(cai) 高純(chun)鎢濺射靶材可用于製(zhi)作半導(dao)體(ti)芯片(pian)層(ceng)間通(tong)孔(kong)（Via）咊接(jie)觸(chu)孔（Contact）的(de)填充(chong)物，即鎢塞(WPlug)。牌號純度(du)(wt%)密(mi)度(%)晶粒度(du)(μm)尺寸(cun)(max.mm)麤糙(cao)度RaHW4N599.995≥19.1850?450×10≤1.6HW5N99.9
高純(chun)鎢(wu)濺射(she)靶(ba)材
高純鎢濺(jian)射靶材可用于(yu)製(zhi)作半導體(ti)芯(xin)片(pian)層(ceng)間通(tong)孔（Via）咊(he)接(jie)觸(chu)孔（Contact）的填(tian)充(chong)物(wu)，即鎢塞(WPlug)。
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牌號 |
純度(du)(wt%) |
密度(%) |
晶粒(li)度(du)(μm) |
尺寸(cun)(max.mm) |
麤糙度(du)Ra |
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HW4N5 |
99.995 |
≥19.18 |
50 |
?450×10 |
≤1.6 |
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HW5N |
99.999 |
≥19.18 |
50 |
?450×10 |
≤1.6 |
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